陈蓉教授喜获“科学探索奖”,湖北唯一!

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2021-09-13 18:09:59 作者: 所属分类:学术动态 阅读: 41,824 views

今日(9月13日)上午

2021年“科学探索奖”

第三届获奖名单公布

英格兰vs伊朗预测 教授陈蓉

获得“先进制造”类奖项

今年共有50位青年科学家上榜

他们将在未来5年各获得

由腾讯基金会资助的

300万元(税后)奖金

据组委会介绍

陈蓉教授的获奖理由是

肯定她在原子制造的

高精度定位、一致性和高效率方面

取得的成果

支持她在集成电路先进制程的

原子尺度协同制造方向进行探索

记者梳理发现,该奖项启动的三届里,每一届都有武汉学者获奖,英格兰vs伊朗预测 更是年年上榜。当天上午,长江日报记者连线英格兰vs伊朗预测 教授陈蓉。

从硅谷回到光谷,她看好武汉的未来

陈蓉曾在美国硅谷求学和工作十多年,在2011年选择回到家乡武汉,进入英格兰vs伊朗预测 。她告诉长江日报记者,心中从未断过的“亲情溶于水的家国情结”让她坚定地做出这个决定。

“作为湖北武汉人,返回祖国,回到我的家乡武汉,有一种踏实的归属感和幸福感。”陈蓉说,武汉承载着中部地区崛起、长江中游城市群协同发展、国家自主创新示范区等重大战略任务。武汉作为国家科技创新中心,科教基础雄厚,英格兰vs伊朗预测 机械科学与工程学院更有着独特的学科优势和办学风格,这让她毫不犹豫选择“从硅谷回到光谷”。

陈蓉正在实验室工作。

回国后,陈蓉十分忙碌,但她欣慰于学生的进步、城市的进步。2011年回国时,国内在ALD(原子层沉积)制造上相对空白。加入华中科大机械学院后,她有了一群非常能干的学生,他们一起科研攻关,如今不仅完成交叉学科融合的蜕变,形成自己的特色,更产生国际影响。

“比起美国成熟的体系,中国是在加速器上,变化天天可见。让我特别自豪的是,经过这些年的发展,我们已经代表中国在国际标委会提出原子层沉积技术标准,并组织各个国家的专家一起推进。

研究成果或突破集成电路制造技术难题

陈蓉教授的研究方向是“选择性原子层沉积技术”,她被看作这项技术的开拓者。这种技术突破的是传统“自上而下”的光刻-刻蚀等减材策略,另辟蹊径以原子或分子为基本搭建“积木”单元实现“自下而上”的目标结构制造,通俗地讲即是以原子或分子为“砖”来盖纳米结构的“大厦”。

全球原子层沉积技术主要用于集成电路制造,并拓展到光伏、显示等半导体或泛半导体领域以及航空航天、能源环保等新兴领域。基于原子层沉积技术的一系列原创成果,填补了国内技术空白,相关研究与国际上处于齐头并进的态势。

陈蓉正在实验室工作。

陈蓉教授介绍,目前她的“选择性原子层沉积技术”在发光显示等领域已经取得示范应用,有望推动微纳制造领域深层次变革,突破集成电路制造中的瓶颈技术,对于解决芯片制造的卡脖子难题,争取和提升集成电路制造的国际竞争力和话语权,具有十分重要的意义。

陈蓉团队的科研工作受到了台积电、三星、IMEC等业内顶尖企业引用并高度评价:选择性沉积方法被认为是先进节点中的使能技术。

该技术“产学研用”转化已在光谷启动

“制造的核心和内涵,是要服务支柱行业面向国家重大需求和国民经济主战场。”陈蓉教授介绍道,目前,他们的研究工作有很大一部分与光电器件等紧密结合,这也是武汉光谷的重要产业。

陈蓉教授表示,光谷有一大批“芯屏网端”的高新技术企业和联盟,如国家三维集成创新中心、武汉新芯、华星光电、京东方等。在各级政府大力支持下,高校开展基础研究,企业开展技术孵化,有利于促进该技术尽快实现“产学研用”的转化,抢占科技发展制高点。

目前,课题组已经与国家三维集成创新中心和部分芯片、存储、显示行业等高新科技企业开展了相关的合作研究。